真空離子鍍 是在真空室內(nèi)采用真空弧光放電技能，在陰極資料外表發(fā)生弧光，使陰極資料蒸騰，構(gòu)成原子和離子。在電場效果下，原子和離子束高速轟擊作為陽極的工件表面。同時向真空室內(nèi)通入反應(yīng)氣體，即可在工件外表構(gòu)成具有很好功能的鍍層。陰極資料（也稱靶材）通常采用鈦、鉻、鋯等金屬，常用反響氣體為氮氣和碳氫化合物氣體。取得的鍍層有TiN、CrN、TiC、ZrN等。真空離子鍍具有下列長處：

可取得高硬度的鍍層，鍍層摩擦系數(shù)小，耐磨性高；

鍍層化學穩(wěn)定性好，抗高溫氧化，耐蝕性好；

鍍層漂亮?？扇〉萌?8K金的金黃色色澤及其它五顏六色膜；

鍍層與基材結(jié)合力高。其結(jié)合力要高于傳統(tǒng)的磁控濺射、真空蒸鍍等涂層，鍍層不易脫落；

出產(chǎn)過程對環(huán)境無污染。鍍層構(gòu)成速度快，節(jié)約用電、節(jié)約用水。

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