真空鍍膜的原理是在真空狀態(tài)下加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標(biāo)物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為：抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有金、鎳、銀、鋁、亞鉛、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、ZrO2、MgF2、TiO2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍。

真空鍍膜 形式是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)最先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等，如手表外殼鍍仿金色，塑膠的金屬感，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式，即和離子鍍、蒸發(fā)鍍膜、濺射。