PVD物理氣相沉積涂層是我們最常用的真空鍍膜工藝。將要涂層的零件放置在真空室內(nèi)。將用作涂層的固體金屬靶材在真空下蒸發(fā)。來自汽化金屬的原子以接近光速的速度運(yùn)動(dòng)，并嵌入真空室的零件表面。為了確保物體的正確區(qū)域被覆蓋，在PVD過程中，零件被小心地定位和旋轉(zhuǎn)。

　　濺射是另一種PVD涂層，用于在物體上沉積導(dǎo)電或絕緣材料涂層。在濺射過程中，使用電離氣體燒蝕或緩慢去除目標(biāo)材料上的金屬。燒蝕后的金屬通過真空室，覆蓋在目標(biāo)上方或下方的所需部位。陰極電弧是一種PVD方法，它使用電弧放電蒸發(fā)材料，如氮化鈦、氮化鋯或銀等。蒸發(fā)的物質(zhì)覆蓋在真空室中的零件上。

　　原子層沉積對(duì)于硅涂層和復(fù)雜尺寸的醫(yī)療器械非常有用。通過交替室內(nèi)的化學(xué)物質(zhì)，涂層的化學(xué)成分和厚度可以用原子精密度來控制。這意味著它可以提供最完整的涂層類型之一，即使對(duì)于尺寸非常復(fù)雜的零件。

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