現(xiàn)如今產品鍍膜已經成為了潮流，給產品鍍膜的方法也是眾多，如：化學浸鍍、電鍍、噴涂導電涂料、真空蒸鍍、陰極濺鍍、離子鍍、燙金、熔化噴涂等，其中PVD真空電鍍是我今天要說的重點了。

PVD真空電鍍：是在高度真空條件下加熱金屬熔化蒸發(fā)，冷卻后在被鍍產品表面形成金屬膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。

加熱金屬的方法：使用電阻產生的熱能和電子束。在蒸發(fā)產品時，必須調整蒸發(fā)時間，以確保金屬冷卻過程中釋放的熱量不會使產品本身變形。此外，熔點和沸點過高的金屬或合金不適合蒸發(fā)鍍。在真空室鍍金屬制品，采用一定的方法加熱鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，冷產品表面的金屬蒸汽凝結成金屬薄膜。在真空條件下，可以減少蒸發(fā)材料的原子和分子在飛向產品的過程中與其他分子產生碰撞，減少氣體中活性分子與蒸發(fā)源材料之間的化學反應（如氧化），從而提供薄膜的密度、純度、沉積速率和附著力。

PVD真空電鍍硬性要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源、被鍍產品和薄膜質量要求較高的場合，壓力較低(10-5Pa)。涂層厚度一般在0.04-0.1um,若低于0.04um則太薄，反射率低；高于0.1um則太厚，附著力差，容易脫落。

以上就是PVD真空電鍍，如想了解工藝中更多的細節(jié)及注意事項，歡迎致電18018743855