由于類金剛石膜層具有許多與金剛石相似或相近的優(yōu)良性能，如硬度高、彈性模量高、摩擦因數(shù)低、生物相溶性好、聲學(xué)性能好、電學(xué)性能佳等。因此在工業(yè)各領(lǐng)域都有極大的應(yīng)用前景，如作為工模具的耐磨及低摩擦涂層、揚(yáng)聲器振膜涂層、生物涂層、光學(xué)保護(hù)涂層、場(chǎng)發(fā)射器涂層、裝飾涂層等。類金剛石涂層就可以通過PVD離子源技術(shù) 來實(shí)現(xiàn)。

目前類金剛石膜層的研究、開發(fā)、制備及應(yīng)用正向深度和廣度推進(jìn)。制備的方法很多：如離子束輔助沉積、磁控濺射、真空陰極電弧沉積、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子注入法等。但不同的制備方法，DLC膜的成分、結(jié)構(gòu)和性能有很大的差別。要實(shí)現(xiàn)大批量、大面積、質(zhì)優(yōu)的DLC膜的應(yīng)用，還存在不少問題，如制備成本高、單爐次批量不大、制備厚涂層難等。

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