磁控濺射鍍膜 膜層一般為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、噴涂鍍膜、電離鍍膜等方法。

濺射鍍膜過程中，在靶與基體之間形成了含有離子、電子、中性原子團(tuán)組成的對外顯中性的氣體，這就是等離子體。

濺射鍍膜過程分為物理氣象沉積、化學(xué)氣象沉積、物理/化學(xué)氣象沉積他們都是在等離子體中形成的。

物理氣象沉積，是等離子體中的正離子轟擊靶表面轟擊來的分子/原子濺射到基體表面，飛行過程中并為發(fā)生任何反應(yīng)。

化學(xué)氣象沉積，是等離子體中的正離子轟擊靶表面轟出來的分子/原子濺射到基體表面，飛行過程中發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)。

不過一般的磁控濺射鍍膜 都是物理、化學(xué)氣象沉積的共同結(jié)果。