真空蒸發(fā)鍍與磁控濺射鍍 相比較他們有自己的加工工藝，其工藝特點(diǎn)也各有優(yōu)劣勢(shì)，小編就來簡(jiǎn)單介紹一下兩者的工藝與優(yōu)劣勢(shì)吧！

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱為蒸鍍材料。真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導(dǎo)體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料，氧化物蒸發(fā)料，氟化物蒸發(fā)料等。

磁控濺射鍍膜是指在真空條件下，通過導(dǎo)電產(chǎn)生磁場(chǎng)，將靶材電解分離成離子，再通過電流磁場(chǎng)將離子附著到基材表面，得到薄膜的一種技術(shù)。根據(jù)使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。磁控濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應(yīng)用量最大的PVD鍍膜材料。

上面對(duì)真空蒸發(fā)鍍與磁控濺射鍍 做了比較后，相信對(duì)鍍膜有需求的客戶應(yīng)該知道自己的產(chǎn)品適合什么要的工藝了吧！如有需求，歡迎致電18018743855