隨著科學技術的不斷進步，人的需求也越來越多，真空鍍膜技術也在不斷進步，許多工藝也有了新的突破。接下來給大家介紹其中一種真空離子鍍金技術。

　　真空離子鍍金技術是PVD技術的一種，是指在真空條件下將材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。采用該技術可以鍍真金或仿金。大多數(shù)真金采用金靶磁控濺射技術，而仿金采用反應濺射或真空離子鍍沉積TiN TiCN ZrN ZrCN等涂層技術。與其他鍍金技術相比，真空離子鍍金具有薄膜與工件表面的結合力更好、硬度更高、耐磨性和耐腐蝕性更好、性能更穩(wěn)定、無有毒或污染物等優(yōu)點。
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