無論采用什么樣的方式真空鍍膜 ，其均勻度都會受到某些因素的影響。今天我們就來聊聊磁控濺射鍍膜，造成膜層不均勻的原因。磁控濺射鍍膜的原理是在真空狀態(tài)下，正交磁場使電子轟擊氬氣，構(gòu)成氬離子再轟擊靶材，靶材離子堆積于產(chǎn)品表面，形成膜層，那么影響膜層不均勻的就有真空度、磁場和氬氣。

真空度需要抽氣系統(tǒng)來完成，每個抽氣口都要一起發(fā)力，這樣就能撐控抽氣的均勻性，爐體內(nèi)的真空度也就很好控制；真空爐體內(nèi)是一個強(qiáng)有力的磁場，雖說磁場強(qiáng)度不可以做到百分之分均勻，但產(chǎn)品在爐體內(nèi)均速公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)，所以膜層也還是很均勻的；氬氣的均勻性對會膜層也有一定的影響，原理和真空度差不多，因?yàn)闅鍤獾募尤?，真空室?nèi)壓強(qiáng)會發(fā)生改變。盡管總有一些因素影響膜層的均勻性，但只要熟練操作真空鍍機(jī)，控制好各項參數(shù)，真空鍍膜的均勻性還是很容易控制的。

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