真空鍍膜加工 產(chǎn)品需要耐熱。在真空鍍膜加工過程中，蒸發(fā)金屬沉積的冷凝潛熱釋放和蒸發(fā)源的輻射發(fā)熱都會對基材表面產(chǎn)生加熱作用。如果基材的耐熱性能不佳，例如選用不耐熱的金屬基材，可能會在真空鍍膜過程中發(fā)生變形。

因此，控制基材不變形需要選擇合適的材質(zhì)，同時還需要控制蒸發(fā)源的溫度、鍍膜時間長短、鍍膜層的厚度等因素。此外，底涂層的耐熱性、抗熱形變和熱分解性能也應(yīng)滿足真空鍍膜工藝要求。真空鍍膜加工的真空爐一般的溫度是200℃~300℃，特調(diào)的溫度可以做到150℃，于我司的真空鍍膜加工而言，150℃已屬低溫工藝范疇。因此，真空鍍膜加工產(chǎn)品需要具備一定的耐熱性能。

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