真空鍍膜 主要包含真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍，它們都是采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是成本也較高，主要加工在不銹鋼金屬表面。

離子鍍膜是真空鍍膜 的一種，是利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。由于離子鍍的效果更加光滑有光澤感被水杯行業(yè)大量使用。