PVD離子鍍是離子鍍膜技術(shù)的簡稱，即ion plating.PVD離子鍍是結(jié)合真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點(diǎn)而發(fā)展起來的一種鍍膜技術(shù)。

PVD離子鍍是在氣體放電或真空中，在氣體離子或蒸發(fā)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)電離，在基體上沉積。PVDl離子鍍是輝光放電/等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)的結(jié)合，大大提高了涂層的性能，拓寬了涂層技術(shù)的應(yīng)用范圍。離子鍍膜技術(shù)具有附著力強(qiáng)，繞射性好，環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。其重要的特點(diǎn)是在基體上施加負(fù)偏壓，加速離子的形成。PVD離子鍍同其他PVD涂層工藝一樣得到了飛速的發(fā)展，應(yīng)用領(lǐng)域也越來越廣泛，并且將會(huì)在未來很長一段時(shí)間為不斷發(fā)展的制造業(yè)提供服務(wù)。

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