蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等，不同的PVD真空鍍膜 兩大類工藝中影響膜層均勻性的因素主要有哪些呢？

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉積在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。厚度均勻性主要取決于：1.基材與靶材的晶格匹配程度、2.基片表面溫度、3.蒸發(fā)功率，速率、4.真空度、5.鍍膜時(shí)間，厚度大小。

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同厚度均勻性，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：1.晶格匹配度、2.基片溫度、3.蒸發(fā)速率

二、對(duì)于濺射類鍍膜：可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率為主要參數(shù)之一。

PVD真空鍍膜 因工藝的不同影響膜層均勻性的因素也不相同，如您有鍍膜相關(guān)的問題需要咨詢，歡迎致電咨詢：18018742966。