PVD真空鍍和CVD化學(xué)鍍 都是當(dāng)前表面處理較常用的處理方式，CVD化學(xué)鍍是基于化學(xué)的氣相沉積，而PVD真空鍍是基于物理氣相沉積，由于他們?cè)谠砩嫌兴鶇^(qū)別，造成了其在最終涂層結(jié)果也不同，在應(yīng)用上各有側(cè)重。

PVD相比CVD要薄，CVD的涂層厚度是10~20μm， 而PVD的涂層厚度只有3~5μm 左右，甚至更薄。PVD的處理溫度大概在150~500℃之間，而CVD的爐內(nèi)溫度在800~1000℃。由此可見(jiàn)，正因?yàn)闇囟群芨撸訡VD 對(duì)其被處理的材料有耐高溫的要求。

除此之外，CVD涂層由于其厚度較厚，處理溫度較高，在冷卻時(shí)表面容易產(chǎn)生拉應(yīng)力，從而形成細(xì)微的裂縫。這些裂縫在受到外力沖擊的情況下容易擴(kuò)展，一旦擴(kuò)展到貫穿整個(gè)涂層時(shí)就會(huì)發(fā)生涂層剝落， 從而使工件基體失去涂層的保護(hù)，此時(shí)CVD涂層由于厚度帶來(lái)的耐磨特性就會(huì)體現(xiàn)的很明顯。

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