真空涂層技術起步時間并不長，上世紀七十年代末開始出現(xiàn)PVD真空鍍膜技術，之后的二三十年間PVD真空鍍膜技術得到迅猛發(fā)展。今天小編與大家一起了解一下 PVD真空鍍膜的一些基本概念。

首先什么是PVD，PVD即物理氣相沉積，是指在真空條件下用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空離子鍍膜、真空濺射鍍膜。我們通常所說的PVD真空鍍膜技術指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍膜。

其次，真空的概念。真空并不是完全沒有空氣的空間，而是空氣及其稀薄的空間，是指定空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)，用氣壓來表示空氣的稀密程度。PVD真空鍍膜過程需要抽真空，真空度是pvd真空鍍膜時務必嚴格管理的指標值之一，它對膜層的顏色、耐磨性能、附著力有著非常重要的影響。

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