PVD真空鍍膜 是指在真空條件下，利用物理方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD的特點是材料從凝相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀?，然后又回到薄膜凝相的過程。最常見的PVD工藝是濺射和蒸發(fā)。PVD薄膜制造用于機械、光學、化學或電子功能。包括半導體設備，例如薄膜太陽能電池板、用于食品包裝和氣球的鍍鋁PET膜、以及用于金屬加工的氮化鈦涂層切削工具。接下來就讓小編就來說說PVD真空鍍膜有哪些優(yōu)點。

1，PVD涂層有時比電鍍工藝應用的涂層更硬、更耐腐蝕。大多數(shù)涂料具有耐高溫和良好的沖擊強度、優(yōu)異的耐磨性，并且非常耐用，很少需要保護性面漆。

2，能夠在使用各種飾面的同樣多樣化的基材和表面上使用幾乎任何類型的無機和一些有機材料。

3，比電鍍、噴漆等傳統(tǒng)涂裝工藝更環(huán)保。

4，可以使用不止一種技術來沉積薄膜。

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