PVD真空電鍍技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的重要分支，已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)、理化儀器、建筑機(jī)械、包裝民用產(chǎn)品表面科學(xué)研究等領(lǐng)域。PVD真空電鍍技術(shù)主要包括蒸發(fā)電鍍、濺射電鍍、離子電鍍、束流沉積電鍍和分子束延伸。此外，還有化學(xué)氣相沉積法。如果真空電鍍的目的是改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能，那么該技術(shù)是真空表面處理技術(shù)的重要組成部分?，F(xiàn)在簡要介紹一下在元件方面的應(yīng)用。

在元件方面，真空蒸發(fā)鎳鉻、鉻或金屬陶瓷可以產(chǎn)生電阻，鋁、氧化硅、二氧化鈦可以產(chǎn)生電容器，可用蒸發(fā)硒獲得靜電復(fù)印機(jī)的硒鼓，蒸發(fā)鈦酸鋇可以產(chǎn)生磁膨脹收縮聲元件等。該方法還可以用來制備超導(dǎo)薄膜和慣性約束巨變反應(yīng)的微珠電鍍。

此外，智能穿戴、珠寶、鐘表外殼表面、紡織金屬圖案、金絲、銀絲等蒸汽裝飾膜也可用于制造超硬膜、濺射鍍或離子鍍刀具和模具。鈦產(chǎn)品近兩年興起，如不銹鋼板、鏡板、包柱、扶手、床架、樓梯欄桿等。

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