PVD真空鍍膜加工 能直接在不銹鋼，鈦、鎢鋼等材質(zhì)表面上電鍍，但對(duì)鐵、鋅合金、銅等材質(zhì)需在真空鍍膜前應(yīng)先化學(xué)電鍍，然后才適合鍍PVD。

PVD鍍膜技能是一種真正可以或許得到微米級(jí)鍍層，并且無污染的環(huán)保型外貌處理懲罰要優(yōu)先，它可以或許制備各類單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.1μm-5μm，裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm-1μm，在不影響工件本來尺寸的環(huán)境下提高工件外貌的各類物理機(jī)能和化學(xué)機(jī)能。

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