PVD真空鍍膜 是在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面形成保護(hù)膜層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。

為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

實際應(yīng)用中，我們往往會根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品，蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品，光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。

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