PVD真空鍍膜 與水鍍，兩者都屬于對產(chǎn)品進(jìn)行表面處理的范疇，都是通過一定的方式在產(chǎn)品表面形成的一層薄膜，應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，也各有千秋。

PVD真空鍍膜運(yùn)用的是物理氣相沉積的原理，在真空爐體內(nèi)鍍膜過程中，不會(huì)產(chǎn)生有毒有害物質(zhì)，膜層金屬質(zhì)感強(qiáng)、高硬度、耐磨性、摩擦系數(shù)低，可鍍多種顏色、顏色均勻穩(wěn)定。但膜層屬微米級的薄膜，很薄，所以對產(chǎn)品素材制作加工的要求就比較高。如：焊接、表面拋光、打磨平整度和一致性要求都比較高，現(xiàn)階段主要應(yīng)用在不銹鋼產(chǎn)品表面較多。像鋅合金、鋁合金、銅、鐵等壓鑄件產(chǎn)品必需先進(jìn)行水鍍，才可以PVD真空鍍膜。

水鍍是指在直流電的作用下，電解溶液中的金屬離子，沉積到產(chǎn)品表面的一層金屬膜，電解液主要是水溶液，也包含有機(jī)溶液和熔融鹽等，有很強(qiáng)的腐蝕性和毒性。膜層厚度可以達(dá)到幾十微米，具有一定的覆蓋性，對產(chǎn)品表面拋光、打磨效果不高，可以在多種產(chǎn)品素材表面的成膜，如：鐵、銅、鋁、鋅、合金、ABS料等，但顏色就很單一。

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