PVD真空鍍膜 由于原理的不同分為很多種類，其過程也非常復(fù)雜，但因為有一個共同點——都需要高真空度，而擁有統(tǒng)一名稱。所以不同的工藝原理，影響均勻性的因素也不盡相同。且均勻性本身也會隨著鍍膜尺度和鍍膜成分不同而不同。薄膜均勻性可簡單分為以下幾類：

厚度上的均勻性：也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜完全不影響原材質(zhì)的性能。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。

化學(xué)組成上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程沒有嚴格按照正確的比例，那么實際表面的組分就并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，因此鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。

以上是PVD真空鍍膜 的均勻性分類概述，如您還有其他分類的均勻性問題，歡迎致電討論：18018742966。