“磁性”在深圳不銹鋼磁控濺射鍍膜廠的磁控濺射工藝中具有舉足輕重影響，“磁性”會影響成膜，其中磁性目標材料有一個困難之處，即目標材料表面的磁場不能滿足正常磁控濺射所需的磁場強度，因此解決方案是增加磁性控制目標材料表面剩余磁性的強度，以滿足目標材料表面磁場大小達到正常濺射工作的要求。

改善磁控濺射的磁性方式有以下幾點：

1、目標材料的設計和改進(減少鐵磁性目標材料的厚度是解決真空電鍍鐵磁性材料目標材料最常見的方法)；

2、增強真空電鍍陰極的磁場效應；

3、降低靶材的磁導率；

4、設計新的磁控濺射陰極裝置；

5、設計新的真空電鍍系統(tǒng)；

6、陰極裝置的綜合設計，目標材料和磁控濺射。

以上就是深圳不銹鋼磁控濺射鍍膜廠就工藝中對于“磁性”的要求及改變磁性的方式，如您還有關于磁控濺射方面的問題想要咨詢，歡迎致電18018743855。