真空離子鍍膜 是指在真空氣氛中利用蒸發(fā)源或濺射靶使膜材蒸發(fā)或濺射，蒸發(fā)或濺射出來的一部分粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子，這些粒子在電場作用下沉積到基體上生成薄膜的一種過程 。

首先將鍍膜室壓力抽真空至 10 -3pa 以下，然后通入工作氣體使壓力增大至 10^0-10^-1pa，接入高壓。由于作為陰極的蒸發(fā)源接地，基體接入可調節(jié)的負偏壓，這時電源即可在蒸發(fā)源與基體間建立起低壓氣體放電的低溫等離子區(qū)；電阻加熱式蒸發(fā)源通電加熱膜材后，從膜材表面上逸出來的中性原子，在向基體遷移的過程中通過等離子體時，一部分原子由于與電子碰撞而電離成正離子；另一部分與工作氣體中的離子碰撞交換電荷后也可生成離子。這些離子在電場作用下被加速而射向接入負電位的基體后，即可生成薄膜。

真空離子鍍膜機的應用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具鍍膜類產品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。工具鍍膜類產品，有著延長其使用壽命的作用，裝飾鍍膜類顧名思義更多的是表面裝飾。