你知道膜層均勻性的概念有多少種嗎？下面讓廣州真空鍍膜廠 給你大概科普一下吧！

1.厚度的均勻性也可以理解為粗糙度。在光學(xué)薄膜的尺度（1/10波長作為單位，約為100A)上來講，真空鍍膜膜層的均勻性相當(dāng)好，可以很容易地將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，即真空鍍膜的膜層對光學(xué)特性沒有任何障礙。但如果是指原子層尺度的均勻性，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A表面平整，是真空涂層的主要技術(shù)含量和技術(shù)瓶頸。具體控制因素接下來會根據(jù)不同的鍍膜工藝進(jìn)行詳細(xì)說明。

2.化學(xué)組分上的均勻性：

也就是說，在薄膜中，化合物的原子組分會容易因為尺度過小產(chǎn)生不均勻的特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，也許會是其他比例，鍍膜不是預(yù)期膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量之處。

3.晶格有序度的均勻性：

晶格的均勻性，就決定了薄膜是單晶、多晶、非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題。主要分為蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜兩大類，這兩類包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束延伸、溶膠凝膠法等。

看了廣州真空鍍膜廠 對膜層均勻性概念的分享后，如您想了解更多有關(guān)于膜層方面的知識歡迎致電18018743855