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光學(xué)鍍膜的概念和特點(diǎn)
來(lái)源: | 發(fā)布日期:2022-06-09

光學(xué)鍍膜 是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬或介質(zhì)薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜方法有真空鍍膜物理鍍膜的一種和化學(xué)鍍膜。

光學(xué)鍍膜

光學(xué)鍍膜 的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割,膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的,可以是透明介質(zhì),也可以是光學(xué)薄膜吸收介質(zhì):可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的,實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多,這是因?yàn)?,制備時(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射,膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面,由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性,膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。

【本文標(biāo)簽】 光學(xué)鍍膜

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