氮化鈦涂層 具有熔點(diǎn)高，化學(xué)穩(wěn)定性好，硬度大，導(dǎo)電、導(dǎo)熱和光性能好等，使其在各個(gè)領(lǐng)域都有著非常重要的用途，尤其是在新型金屬陶瓷領(lǐng)域和代金裝飾領(lǐng)域方面。

常用的濺射氮化鈦涂層是入射粒子和靶碰撞，靶原子被撞后，獲得滿足能量，脫離靶材，堆積于基體上。為了提高濺射功率，加入了磁控技術(shù)。選用的磁控濺射源中的磁場(chǎng)為均勻關(guān)閉磁場(chǎng)的方法，此方法被稱作平衡磁控濺射法。此方法無論是平面靶仍是柱狀靶，都是使用平行于靶面的磁場(chǎng)分量來約束二次電子在靶面做螺旋線運(yùn)動(dòng)。以此提高氬氣的離子化率和提高濺射速率。

如果您想了解更多關(guān)于氮化鈦涂層 的相關(guān)信息，歡迎來電咨詢：18018742966。