磁控濺射真空鍍是物理氣相沉中的一種，也是在密閉空間，真空爐內(nèi)形成的膜層。它在爐體內(nèi),肉眼看不到的原子是如何運(yùn)動(dòng)、膜層是如何形成的呢？請(qǐng)接著往下看。

磁控濺射真空鍍?cè)跔t體內(nèi)，氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉積在素材上形成薄膜。二次電子加速飛向素材的過(guò)程中，受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終被陽(yáng)極吸收在素材上形成膜層。

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