磁控濺射鍍膜 工藝保持真空腔至關(guān)重要，尤其是保持濺射系統(tǒng)清潔。潤滑油、灰塵和以前的涂層形成的任何殘留物都會聚集水分和其他污染物，直接影響真空度并增加成膜失敗的可能性。靶材短路或起弧、成膜表面粗糙、化學(xué)雜質(zhì)含量過高等原因往往是濺射室、濺射槍、靶材不干凈造成的。

1. 為保持鍍層的成分特性，濺射氣體（氬氣或氧氣）必須清潔干燥。基板安裝在濺射室后，必須抽出空氣以達(dá)到工藝所需的真空度。

2、暗區(qū)屏蔽罩、空腔壁、相鄰面也需要保持清潔。清潔真空腔時，建議使用玻璃球拋丸法處理臟件。早期可使用壓縮空氣清除型腔周圍的濺射殘留物。

3. 使用目標(biāo)時不要用手直接接觸目標(biāo)。在使用目標(biāo)之前，請戴上干凈且不起毛的防護(hù)手套。不要用手直接接觸目標(biāo)。

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